Фотоэлектронный спектрометр SPECS UNI-SPECS

Оформить заявку Фотоэлектронный спектрометр SPECS UNI-SPECS

Назначение прибора

Сверхвысоковакуумный фотоэлектронный спектрометр для химического анализа PHOIBOS 150MCD9 производства компании SPECS Gmbh (Берлин, Германия). Приобретен Сибирским отделением СО РАН в конце 2007 г., дата введения в эксплуатацию (Институт химии и химической технологии СО РАН) – февраль 2008 года.

Фотоэлектронный спектрометр предназначен для исследования химического состава поверхностных слоев твердого тела (несколько нанометров, до 100 нм при послойном анализе). Комплектация прибора обеспечивает применение методов рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФЭС/XPS), ультрафиолетовой фотоэлектронной спектроскопии (УФЭС), Оже-электронной спектроскопии и микроскопии (ОЭС и ОЭМ), отражательной спектроскопии характеристических потерь энергии электронов (СХПЭЭ/REELS).

Основные технические характеристики прибора

Для возбуждения немонохроматизированного рентгеновского излучения используется рентгеновская трубка с двойным анодом Mg (1253,6 эВ) или Al (1486,6 эВ), монохроматизированного излучения – Al (1486,74 эВ) или Ag (2984,3 эВ). Источником УФ-излучения служит газоразрядная лампа (He I – 21,2 эВ, He II – 40,8 эВ и др.).

Характеристики электронной пушки:

  • диапазон энергии от 20 эВ до 5 кэВ;
  • максимальный ток пучка 100 мкА.

Характеристики растровой ионной пушки:

  • минимальный диаметр пучка не более 100 мкм;
  • размер растра до 10х10 мм;
  • минимальный ионный ток 5 мкА;
  • диапазон энергии ионов от 500 эВ до 5 кэВ.

Рабочий вакуум в аналитической камере порядка 10-9 мБар.

Подложки для образцовВид спектрометра со стороны шлюзовой камеры
Подложки для образцовВид спектрометра со стороны шлюзовой камеры

Области применения прибора

Метод РФЭС:

  • элементный состав поверхности элементов, начиная с Li;
  • химическое (электронное) состояние элементов, идентификация поверхностных соединений;
  • распределение элементов по глубине.

Метод УФЭС:

  • электронная структура валентной зоны (поверхности) твердых тел.

Метод ОЭС и ОЭМ:

  • локальный элементный анализ поверхности (кроме Н и Не) и относительные концентрации элемента с латеральным разрешением до 1 мкм;
  • латеральное распределение элемента по поверхности;
  • профиль распределения элемента по глубине (до примерно 0,1 мкм).

Требования к образцам исследования

Исследуемые объекты – твердые образцы в виде пластин (размер не менее 5х5 мм2, не более 12x12x15 мм3), порошков. Образцы не должны разрушаться в вакууме.

Время необходимое на одно измерение

  • предельное время установления рабочего режима, час. (в основном, время откачки) - 2;
  • время непрерывной работы, час. – 10;
  • характерное время на одно измерение – 2-4 ч;
  • время исполнения заказа – по договоренности;
  • ед. измерения: час, кол-во образцов.

Форматы данных, выдаваемых прибором

В виде цифровых файлов, уровень обработки результатов в зависимости от договоренности.

Типичные форматы:

  • ASCII
  • .vms (CasaXPS)
  • .org или .opj (Origin) и другие.

Программы для конвертации полученных данных:

  • SpecsLab2
  • Casa XPS
  • Origin
  • MS Office Exсel, и др.

Способы выдачи информации для заказчика: Электронная почта или твердый носитель по желанию заказчика.

Примеры фотоэлектронных спектров (обзорный и высокого разрешения) в программе CasaXPS.

Процедура подачи образца на измерения

Предварительная договоренность по e-mail, доставка образцов заказчиком в согласованные сроки.

Контактная информация

Место расположения прибора660036, Красноярск, Академгородок, 50, стр. 24
Институт химии и химической технологии СО РАН,
Лаборатория гидрометаллургических процессов.
Ответственный за приборГлавный научный сотрудник, д.х.н. – Михлин Юрий Леонидович
e-mail: yumikh@icct.ru
Заявки принимает Главный научный сотрудник, д.х.н. – Михлин Юрий Леонидович
e-mail: yumikh@icct.ru